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2025-07-09
隨著(zhù)信息技術(shù)、光通信技術(shù)的迅猛發(fā)展,MEMS發(fā)展的又一領(lǐng)域是與光學(xué)相結合,即綜合微電子、微機械、光電子技術(shù)等基礎技術(shù),開(kāi)發(fā)新型光器件,稱(chēng)為 微光機電系統(光學(xué)MEMS)。它能把各種MEMS結構件與微光學(xué)器件、光波導器件、半導體激光器件、光電檢測器件等完整地集成在一起,形成一種全新的功能系統。
光學(xué)MEMS具有體積小、成本低、可批量生產(chǎn)、可精確驅動(dòng)和控制等特點(diǎn)。目前較成功的應用科學(xué)研究主要集中在兩個(gè)方面:
1. 基于光學(xué)MEMS的新型顯示、投影設備;
2. 通信系統中的光開(kāi)關(guān)調制器、光濾波器及復用器等光通信器件。
光學(xué)MEMS是綜合性和學(xué)科交叉性很強的高新技術(shù),開(kāi)展這個(gè)領(lǐng)域的科學(xué)技術(shù)研究,可以帶動(dòng)大量的新概念的功能器件開(kāi)發(fā)。
光學(xué)MEMS技術(shù)應用主要分為光學(xué)執行器、光學(xué)傳感器、光學(xué)加工制造三類(lèi)。
光學(xué)MEMS器件設計包括 MEMS 光芯片設計 和 光學(xué)設計 兩個(gè)關(guān)鍵部分:
l 光芯片設計:采用專(zhuān)業(yè)的MEMS設計軟件對芯片的運動(dòng)模態(tài)、驅動(dòng)特性、微結構應力、阻尼特性、抗震動(dòng)特性、工藝容差等進(jìn)行仿真分析,進(jìn)而確定芯片微結構的各項技術(shù)參數。
l 光學(xué)設計:完成器件的光學(xué)封裝的光路設計和仿真,通常還涉及光纖耦合設計。
光學(xué)MEMS 芯片的制造分為 體硅工藝 和 表面硅工藝 兩種工藝路線(xiàn)。這些工藝大部分來(lái)自于IC 工藝,也有一部分是MEMS 的特色工藝,如硅-硅鍵合、硅深刻蝕、犧牲層工藝等。
光學(xué)MEMS芯片制造完成后的測試,采用晶圓級測試可以大大加快測試速度,但晶圓級測試機臺往往需要定制開(kāi)發(fā)。光學(xué)MEMS晶圓的切割是最有挑戰性的工藝,這主要緣于光學(xué)芯片的微細可動(dòng)結構和微鏡面不能沖水、不能貼藍膜、不能沾污顆粒。
光學(xué)MEMS器件的光電封裝是產(chǎn)品化的關(guān)鍵步驟,其不同于IC及其他MEMS器件的封裝,需要采用帶光學(xué)窗口的密封金屬管殼進(jìn)行電連接、氣密封裝,再完成光學(xué)對光耦合。與標準封裝方式不同,光學(xué)MEMS封裝屬于特殊封裝,其封裝成本在器件或系統總成本占據很大的比重,可高達60%-70%。
光學(xué)MEMS 的主要應用領(lǐng)域如下表所示:
應用分類(lèi) | 應用場(chǎng)景 |
光學(xué)執行器 | 數字微鏡陣列芯片、光柵光閥、光開(kāi)關(guān)、光衰減器等 |
光學(xué)傳感器 | 環(huán)境光傳感器、接近傳感器、CMOS圖像傳感器、3D深度傳感器等 |
光學(xué)加工制造 | 微型光譜儀、激光掃描儀、激光打印機等 |
此外,由于智能手機和平板電腦越來(lái)越普及以及用戶(hù)對用戶(hù)體驗的要求越來(lái)越高,環(huán)境光傳感器和接近傳感器等光學(xué)MEMS傳感器的需求也在不斷增長(cháng)。同時(shí),CMOS圖像傳感器在消費電子、生物醫學(xué)、汽車(chē)電子以及智能安防等各領(lǐng)域的廣泛應用也使得其成為最大的細分市場(chǎng)領(lǐng)域。
光學(xué)MEMS傳感器因為應用和市場(chǎng)驅動(dòng)呈現高速的增長(cháng)趨勢。
光學(xué)MEMS 器件是集成制造的微型光學(xué)元件與MEMS執行器,其光學(xué)原理分為反射、干涉、衍射、透射、遮擋等幾種,以 反射型器件為主。光學(xué)MEMS器件中制造的微型光學(xué)元件包括:
l 微反射鏡
l 微透鏡
l 微棱鏡
l 光柵
l 衍射光學(xué)元件
l FP干涉儀
光學(xué)MEMS 器件中的MEMS 執行器的驅動(dòng)方式包括:
l 靜電驅動(dòng)(平板驅動(dòng)器/平面梳齒驅動(dòng)器/垂直梳齒驅動(dòng)器)
l 電磁驅動(dòng)器
l 壓電驅動(dòng)器
l 電熱驅動(dòng)器
其運動(dòng)方式包括離面垂直運動(dòng)、面內平動(dòng)、扭轉運動(dòng)、諧振等。
目前光學(xué)MEMS傳感器可以分為三類(lèi):
1. MEMS光開(kāi)關(guān)
2. 可調式光衰減器(VOA)
3. MEMS微鏡
MEMS光開(kāi)關(guān)在光通信中起到光路切換、光路保護等作用,還廣泛應用于光纖線(xiàn)路的監測、光器件測試系統。
MEMS光開(kāi)關(guān)的基本原理是采用光學(xué)微鏡或光學(xué)微鏡陣列改變光束的傳播方向實(shí)現光路的切換,已發(fā)展出了很多新穎的MEMS 光開(kāi)關(guān)結構。
MEMS技術(shù)制作的光開(kāi)關(guān)是將機械結構、微觸動(dòng)器和微光元件在同一襯底上集成,結構緊湊、重量輕,易于擴展。它比機械式光開(kāi)關(guān)和波導型光開(kāi)關(guān)具有更好的性能,如:
l 低插損
l 小串音
l 高消光比
l 重復性好
l 響應速度適中
l 與波長(cháng)、偏振、速率及調制方式無(wú)關(guān)
l 壽命長(cháng)、可靠性高
l 可擴展成大規模光交叉連接開(kāi)關(guān)矩陣
MEMS光開(kāi)關(guān)有兩種結構形式:
l 二維數字結構:所有微反射鏡和輸入輸出光纖位于同一平面上,通過(guò)靜電致動(dòng)器使微鏡直立和倒下或使微鏡以“蹺蹺板”的方式處于光路和彈出光路的工作方式來(lái)實(shí)現“開(kāi)”和 “關(guān)”的功能。
l 三維模擬結構:所有微反射鏡處于相向的兩個(gè)平面上,通過(guò)改變每個(gè)微鏡的不同位置來(lái)實(shí)現光路的切換。
MEMS 光開(kāi)關(guān)的優(yōu)勢體現在性能、功能、規模、可靠性和成本等多個(gè)方面:
l 在插入損耗、波長(cháng)平坦度、PDL(偏振相關(guān)損耗)和串擾方面,MEMS技術(shù)能達到的性能可與其他技術(shù)所能達到的最高性能相比。
l 在成本方面,MEMS光開(kāi)關(guān)為降低系統成本提供了多種可能,MEMS芯片的功能度使得更低成本的網(wǎng)絡(luò )設置和架構以及光纖層的保護成為可能。
l MEMS尺寸小和功耗低的特性使得系統的外形可以縮小,節省了中繼器和終端節點(diǎn)占用的地盤(pán)。
l MEMS器件的單批產(chǎn)量很高,經(jīng)濟性好,而且器件與器件之間重復性好。
光衰減器是光纖通信中使用最廣泛的光器件之一,其功能是完成對光信號功率的控制。MEMS 可調光衰減器能夠快速電響應、動(dòng)態(tài)可調諧、體積小、成本低,是目前應用量最大的MEMS 光器件。
MEMS VOA 分為 反射式VOA 和 衍射式VOA:
工作原理是在硅基上制作一塊微反射鏡。光經(jīng)過(guò)雙光纖準直器的一端進(jìn)入,以一定角度入射到微反射鏡上,當施加電壓時(shí),微反射鏡在靜電作用下被扭轉,傾角改變,入射光的入射角度發(fā)生改變,光反射后能量不能完全耦合進(jìn)雙芯準直器的另一端,達到調節光強的目的。
基于動(dòng)態(tài)衍射光柵技術(shù),采用MEMS 平移執行器控制光學(xué)衍射元件(如光柵)的相位,改變光衍射效率,實(shí)現對光信號功率的控制。這種動(dòng)態(tài)衍射光柵由平行微柵條陣列構成,微柵條上表面鍍以200~300nm 厚的鋁膜,起電極和反射光的雙重作用。
MEMS微鏡是指采用光學(xué)MEMS技術(shù)制造的,把微光反射鏡與MEMS驅動(dòng)器集成在一起的光學(xué)MEMS器件。MEMS微鏡的運動(dòng)方式包括平動(dòng)和扭轉兩種機械運動(dòng)。
對于扭轉MEMS微鏡,當其光學(xué)偏轉角度較大(達到10°以上),主要功能是實(shí)現激光的指向偏轉、圖形化掃描、圖像掃描時(shí),可被稱(chēng)為“MEMS 掃描鏡”。
MEMS 掃描鏡是激光應用必不可少的關(guān)鍵激光元器件,應用領(lǐng)域已滲透到消費電子、醫療、軍事國防、通訊等。
l 激光掃描:激光雷達、3D 攝像頭、條形碼掃描、激光打印機、醫療成像
l 光通信:光分插復用器、光衰減器、光開(kāi)關(guān)、光柵
l 數字顯示:高清電視、激光微投影、數字影院、汽車(chē)抬頭顯示(HUD)、激光鍵盤(pán)、增強現實(shí)(AR)
MEMS微鏡按原理區分主要包括四種驅動(dòng)方式:
1. 靜電驅動(dòng):利用電荷間的庫侖力作為驅動(dòng)力,工藝兼容性好,便于成。
2. 電磁驅動(dòng):電流驅動(dòng),驅動(dòng)電壓低,無(wú)須升壓芯片,適合線(xiàn)性驅動(dòng)。
3. 電熱驅動(dòng):利用材料對溫度的敏感而產(chǎn)生不同的形變量,驅動(dòng)結構樣。
4. 壓電驅動(dòng):利用材料的逆壓電效應,通過(guò)外界電場(chǎng)來(lái)產(chǎn)生微位移。
驅動(dòng)方式 | 特點(diǎn) | 應用優(yōu)勢 |
靜電驅動(dòng) | 工藝兼容性強、低功耗 | 易于集成、適合大規模量產(chǎn) |
電磁驅動(dòng) | 驅動(dòng)電壓低、線(xiàn)性度高 | 扭轉角度大、適用于復雜控制 |
電熱驅動(dòng) | 結構簡(jiǎn)單、成本低 | 適用于中低精度應用場(chǎng)景 |
壓電驅動(dòng) | 高精度、大位移 | 適用于高靈敏度、高性能要求 |
光學(xué)MEMS技術(shù)在20 世紀80 年代左右開(kāi)始起步,至今已有三十多年的發(fā)展歷程。當前,光學(xué)MEMS 還處于發(fā)展的早期階段,未來(lái)發(fā)展方向包括:
1. 理論探索與多學(xué)科交叉研究:推動(dòng)CAD工具開(kāi)發(fā)與綜合仿真平臺建設。
2. 納米結構自適應光學(xué)裝置:提升微鏡表面質(zhì)量,增強器件穩定性。
3. 功能性擴展與系統集成:結合傳統物理光學(xué)系統,拓展光譜、偏振、空間屬性控制能力。
我們專(zhuān)注于光學(xué)MEMS技術(shù)的研發(fā)與產(chǎn)業(yè)化,提供高品質(zhì)的 MEMS光開(kāi)關(guān)、可調式光衰減器(VOA)、MEMS微鏡 等核心光通信器件。公司擁有完整的MEMS 工藝線(xiàn)和封裝能力,致力于打造國產(chǎn)化高端光學(xué)MEMS解決方案,助力中國光通信產(chǎn)業(yè)升級。
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